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  • 高性能六甲基二硅氮烷实现技术突破,纯度指标领跑行业标准

           近日,国内某新材料企业研发的六甲基二硅氮烷产品凭借 99.0% 以上的超高纯度,突破传统生产工艺瓶颈,各项指标均达到国际先进水平。
           该产品为无色透明液体,在 25℃时密度稳定在 0.774g/cm³,20℃条件下折射率保持在 1.4069-1.4089 之间,物理性能参数呈现出优异的稳定性。其熔点低至 - 78℃,沸点为 125℃,在较宽温度范围内可保持稳定状态,为工业生产中的储存与运输提供便利条件。
           值得关注的是,该产品严格控制杂质含量,其中六甲基二硅氧烷含量≤0.5%,三甲基硅醇含量≤0.3%,氯离子含量≤50PPM,远低于行业平均标准。这种高精度的质量控制,使其在半导体、医药化工等对纯度要求严苛的领域展现出巨大应用潜力。
           据研发负责人介绍,产品水溶性呈现反应特性,这一化学属性使其在表面处理工艺中可形成均匀的硅氧烷保护层,有效提升材料的耐腐蚀性与疏水性。目前,该产品已通过多项行业认证,即将批量投放市场。

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